一、中国研制成功7nm光刻机是真的吗？
中国研制成功7nm光刻机是假的，这是谣言，目前光刻机的研发还对于祖国发展有所限制
二、中国7nm光刻机自主了吗？
没有自主
国产7nm的光刻机还没有研制成功的，能够制造7纳米芯片的光刻机就是极紫外光刻机，目前能够制造极紫外光刻机的只有一家，就是荷兰的阿斯麦公司，而且阿斯麦公司也只是一个组装公司，极紫外光刻机是一个庞大的工程，它的零件都是全球最顶尖的科技，比如美国的光源，德国的镜头，法国机械臂，英国的电动马达，都是要求非常精密的，难度很大，所以我国还没研制出来。
三、7nm光刻机是什么？
7nm只是一种工艺的代号，它和光刻机本身是不挂钩的。按照一般人的理解7nm光刻机就是指能制作7nm工艺的光刻机，这个命名方式乍看起来很合理，实际上漏洞百出。
业界对于光刻机主要是根据其使用光源进行命名和分类。比如现在处于尖端地位的EUV（extreme ultra violet）光刻机，这类光刻机使用了极紫外光作为光源。目前业界的EUV光刻机大多使用的是波长为13.5nm左右的极紫外光。
另一种业界比较主流的光刻机就是DUV（deep ultra violet）光刻机了，这类光刻机使用的是深紫外光作为光源。目前业界的DUV光刻机大多使用的是波长为193nm的氟化氩准分子激光（ArF excimer laser）或者波长为248nm的氟化氪准分子激光（KrF excimer laser）作为光源。
四、光刻机7nm什么意思？
7nm只是一种工艺的代号，它和光刻机本身是不挂钩的。按照一般人的理解7nm光刻机就是指能制作7nm工艺的光刻机，这个命名方式乍看起来很合理，实际上漏洞百出。
业界对于光刻机主要是根据其使用光源进行命名和分类。比如现在处于尖端地位的EUV（extreme ultra violet）光刻机，这类光刻机使用了极紫外光作为光源。目前业界的EUV光刻机大多使用的是波长为13.5nm左右的极紫外光。
另一种业界比较主流的光刻机就是DUV（deep ultra violet）光刻机了，这类光刻机使用的是深紫外光作为光源。目前业界的DUV光刻机大多使用的是波长为193nm的氟化氩准分子激光（ArF excimer laser）或者波长为248nm的氟化氪准分子激光（KrF excimer laser）作为光源。
五、中微半导体7nm光刻机有何用？
中微半导体7nm光刻机非常有用
因为在制造芯片时，尺寸越小则芯片的性能和功耗就越优秀，而7纳米技术是目前智能手机芯片等领域的最新制造工艺，因此中微半导体7nm光刻机的出现，使得芯片制造可以更加高效、精准和可靠，使得手机等设备的性能得到显著提升
同时，中微半导体7nm光刻机也可以应用于其它重要领域，例如人工智能、自动驾驶等技术的开发制造，对于推动科技进步、促进社会经济的发展都有着积极的作用
六、7nm光刻机去哪了？
7nm光刻机在荷兰阿斯麦尔，去了台积电、三星、英特尔。
其实吧，没有什么7nm光刻机，只有13.5nm极紫外光光源的euv光刻机，该光刻机是目前全球唯一高端光刻机，是荷兰阿斯麦尔生产的。每年也就能生产几十套，大部分呗台积电买走，剩下的是三星和英特尔分掉了。7nm光刻机去哪了？去看这几个地方
